捷佳偉創掩膜噴墨打印設備交付頭部晶硅企業 焦點熱聞
2026-06-29 18:56:59 來源:第一財經
(資料圖片僅供參考)
近日,捷佳偉創自主研發的專用高精度掩膜噴墨打印設備正式交付國內頭部晶硅光伏企業。該設備專為BC電池背面Poly層圖形化工藝定制,替代傳統激光開槽、干膜光刻方案,實現BC電池鈍化層精細化圖形化低成本量產。
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